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1.实验用小型真空烧结炉 设备用途
本系列真空炉为周期作业式,采用上开盖结构桌面式设计、采用石墨管为发热元件,适用于金属材料,无机非金属材料,在真空或保护气氛下进行烧结适用,也可用于光学材料的烧结提纯样品测试分析等适用。
2.实验用小型真空烧结炉 主要技术参数
3.1 电源:三相 380V 50Hz
3.2 加热功率:4Kw ±10%(单相220V)
3.3 最高温度:2000℃
3.4 额定温度:0~1950℃
3.4 工作区尺寸:Φ40*40(D*H,mm)(实际工件摆放区)
3.5 控温区数:一区
3.6 控温方式:钨铼热偶控温测温
3.7 控温精度:±1℃
3.8 冷态极限真空度:≤10Pa(空炉、冷态、烘烤除气后)
3.9 充气气氛:惰性气体
3.10 充气压力:≤0.05MPa
1. 结构及功能说明:
设备采用桌面式立式上开盖结构,设备整体设计,操作高度适中,操作方便,设备主要有炉盖、炉体,底座、真空系统、加热系统、水冷系统、控制系统等组成。
6.1 炉盖
炉盖采用双层不锈钢(SUS304)水夹层平板结构,与法兰组焊成一个整体。其中内壁精密抛光,外壁拉丝处理。炉门上设有冷却水进出口、压力表,放气阀等快接接口。
6.2 炉体
炉体采用双层不锈钢(SUS304)水夹层架构,与上、下法兰组焊成筒形结构,上下法兰平面上开设有燕尾型密封槽,采用O型硅橡胶密封圈密封。炉内壁精密抛光,外壁拉丝处理。炉体侧面设有冷却水进出口、真空抽气口、加热电极接口,热偶测温接口等。
6.3 炉底
炉底采用双层不锈钢(SUS304)水夹层平板结构,与法兰组焊成一个整体。其中内壁精密抛光,外壁拉丝处理。法兰平面开设有燕尾型密封槽,采用O型硅橡胶密封圈密封。
6.4 炉架
炉架采用型材钣金焊接作为骨架,并配合数控钣金,组合成一个整体,作为整个设备的基础。同时,一体式设计整齐美观,操作方便。
6.5 加热及隔热系统
加热采用高纯石墨作发热体,纯度高,无挥发,有效保证炉腔内的清洁度。隔热材料采用石墨成型纤维软毡,保温效果好,耐冲击性好。整个隔热屏采用金属框架固定,便于安装与维护。
温度控制采用热电偶直接控温测温。同时,在隔热屏外设置一支监控热电偶,监控隔热屏外温度,提高设备的安全使用性能。
6.6 真空系统
真空系统采用单级泵配置,由一台VRD-16机械泵、手动高真空阀、充气阀、放气阀、真空压力表、真空测量规管等组成,真空管道与泵的联接采用金属波纹管减缓震动,真空度的测量由真空计执行。
6.8 充放气系统
本设备配置一路充放气系统,由电磁阀、手阀、、接头等组成,可对炉内气氛压力进行控制。手阀可以根据实际情况,适当调整气体流量。排出的气体客户可结合实际情况进行处理。
6.9 水冷装置
水冷系统由一台进出水总管道、阀门及各支路组成。冷却水由总进水总管进入后,经过各支管送到炉门、炉体、炉底、水冷电极、真空泵、冷阱等这些需要冷却水的地方,然后汇总到出水总管排出。总进水管路设有电接点压力表,具有断水声光报警并切断电源功能。各支路水管采用透明塑胶软管,通过不锈钢接头联接进出水总管道及设备各进出水口。每路冷却水进水管都装有手动阀门,可手动调节水流量大小。
6.10 控制系统:
控制加热系统有可控硅调压器+低压高流大功率变压器+测温装置,组成闭环控制系统,温度仪表采用程序仪表带PID自动调节功能,带自整定自我调整能力。稳定可靠,控制精度高。设备整体配有操作触摸屏和PLC,温度数据,真空数据可记录可下载。
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